TDK子公司开发出2012尺寸的积层铁氧体线圈

2011-03-08 来源:微波射频网 字号:

  TDK股份有限公司旗下子公司TDK-EPC公司功开发出2012尺寸的积层铁氧体线圈(MLZ2012-H系列),并于2011年2月起开始量产。该产品作为去耦(decoupling)功能,被应用于数码相机、摄像机等便携式电子机械设备以及笔记本电脑等。

  该产品通过采用直流重叠特性进一步改善的TDK独自的铁氧体材料以及控制涂料性质,形成最合理的积层构造,与本公司以往产品(MLZ2012-W)相比,定额电流达700mA(电感值为1.0μH的情况下),最大增加了2.5倍。在2012尺寸去耦用积层铁氧体线圈领域,其定额电流值达到业内最高水平(注),并具有与卷线型线圈相同水平的直流重叠特性。

  近年来,以IC驱动为首的电子机械设备向低电耗方向不断发展。因此,积层型线圈的应用范围也随之逐渐扩大。该MLZ2012-H系列产品,充分发挥了本公司引以为豪的积层技术,实现了在以往只能使用卷线型线圈电路中的应用。

  注: 根据2011年2月TDK-EPC的调查

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  术语

  · 去耦(decoupling): 防止电流变动对其他电路部分产生的影响(耦合,coupling)。
  · 直流重叠特性:指直流电流引起磁饱和,使电感值下降的现象。

  主要应用

  · 数码相机、摄像机、笔记本电脑等小型电子机械设备的去耦。

  主要特点

  · 与以往产品相比,定额电流增大2.5倍,具有与卷线型线圈等量的定额电流。
  · 不仅符合RoHS规范,并且还能够应对无铅焊接。

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