TICRA POS/GRASP/CHAMP 软件版本升级

     2010年3月，TICRA新发布了POS 5.3版本，比之前的POS 5.2，主要添加了以下两方面新功能：
      • 支持MPI Linux cluster：POS的反射面优化有时候比较耗时，新版本允许针对“optimise”命令采用MPI并行计算。以往优化过程中，POS不断比较剩余误差和目标后生成适当的新参数再次计算，直到最后得到最优结果。在并行计算环境中，主机节点只需要确定生成新的计算参数，电磁场和电流的计算等是在并行节点中同时计算的。需要注意的是，该功能需要用户自己配置Linux系统的MPI并行环境。

      • 命令行运行方式的license排队机制：采用浮动license时，如果license用户数达到上限，对于新提交的任务，原来版本会马上拒绝，这就需要用户在license空闲时候手动再提交一次。POS5.3 提供了license排队机制，可以将新任务进行排队，等license释放时自动计算。
 
     2010年4月，TICRA新发布了GRASP9.7版本，比之前的GRASP9.6，主要添加了以下两方面新功能：

      • 新版本加入准光系统设计插件QUAST，该插件是在原来Frame Design Tool基础上开发，扩展了诸如简单透镜、分波器(beam splitters)、Martin-Puplett干涉仪等功能，需要单独的license支持。

      • GRASP 9.7增加了近场平面波展开功能，该功能对于一些应用能够起到加快仿真速度、提高精度作用。

2010年7月，TICRA新发布了CHAMP 2.1版本。比之前的CHAMP 2.0.4，主要添加了以下四方面新功能：

      • CHAMP 2.1改进了喇叭设计向导，现在能得到更精确的增益和照射锥削初始值，并且能选择喇叭张角。

      • 简化优化设置，能更简单有效的设置优化目标值。同时，增加了新优化目标：轴向增益和口径效率。

      • CHAMP 2.1允许用户输出自定义轴向偏置距离的SWE参数，可以使得SWE参数的中心放在相位中心位置，并且自动导出到GRASP里面。

      • CHAMP的输出结果能保存为和GRASP相同的格式。

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